簡易檢索 / 檢索結果

  • 檢索結果:共29筆資料 檢索策略: "Liang-Yih Chen".ecommittee (精準) and cadvisor.raw="洪儒生"


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    1

    Microcrystalline Si thin film solar cells prepared through VHF- PECVD
    • 化學工程系 /101/ 碩士
    • 研究生: Gizachew Belay 指導教授: 洪儒生
    • In this work, hydrogenated microcrystalline silicon (μc-Si:H) films deposited through very high fr…
    • 點閱:418下載:0

    2

    以鋁矽/金矽合金與石墨之共蒸鍍來製備碳化矽之研究
    • 化學工程系 /106/ 碩士
    • 研究生: 謝孟廷 指導教授: 洪儒生
    • 本論文針對碳化矽的低溫製備,考慮利用矽化物合金的低融點特性,期望在較低的溫度下使其與活性碳物種反應來生成碳化矽鍵結。 本研究將採用電子束與熱蒸鍍法共蒸鍍石墨與金矽/鋁矽合金,分別於合金共晶溫度(36…
    • 點閱:245下載:1

    3

    以鈀奈米顆粒層作為矽晶片黏合之接觸電阻評估
    • 化學工程系 /106/ 碩士
    • 研究生: 李建澤 指導教授: 洪儒生
    • 本篇論文對矽鍺晶片之多重接面太陽能電池之探討,使用鈀奈米粒子做接合層,以進行退火壓合,使兩晶片完成接合。我們利用團聯式共聚物,均勻塗佈於晶片表面,並令其吸附含鈀溶液,成長鈀奈米粒子,再經氫器/氬氣電…
    • 點閱:196下載:1

    4

    大面積射頻電漿輔助化學氣相沉積系統製備氫化非晶矽膜作為矽晶鈍化層之研究
    • 化學工程系 /105/ 碩士
    • 研究生: 廖苡良 指導教授: 洪儒生
    • 本研究係在以較大面積(20×20 cm2)之射頻電漿輔助化學氣相沉積系統中,通入矽甲烷原料以不同製程條件於單晶矽表面沉積氫化非晶矽形成異質接合結構。研究重點在探究在此一沉積系統中氫化晶矽的鍍…
    • 點閱:335下載:2

    5

    以矽合金/碳靶之共濺鍍製備碳化矽暨碳化矽磊晶高速化對策模擬之研究
    • 化學工程系 /105/ 碩士
    • 研究生: 熊子賢 指導教授: 洪儒生
    • 本論文分為兩個部分,第一部分目的在探討使用共濺鍍氣相沉積法製備碳化矽薄膜。不同於高溫(1600℃)化學氣相沉積法製備碳化矽薄膜,本研究之重點在於利用矽合金靶材和碳靶在相對低溫的下以不同射頻電漿製程參…
    • 點閱:432下載:1

    6

    金屬輔助化學蝕刻矽晶製作黑片之後表面處理程序最適化
    • 化學工程系 /104/ 碩士
    • 研究生: 張家逢 指導教授: 洪儒生
    • 本論文主要探討黑晶片的蝕刻條件來達到低反射率,同時探討清洗方式對黑晶片的影響來達到低反射率且高載子生命週期的黑晶片。以我們蝕刻液的配方,我們發現在p-type FZ晶片上成長黑晶片結構時,反射率不會…
    • 點閱:293下載:0
    • 全文公開日期 2021/02/15 (校內網路)
    • 全文公開日期 本全文未授權公開 (校外網路)
    • 全文公開日期 本全文未授權公開 (國家圖書館:臺灣博碩士論文系統)

    7

    於不同基材上的摻鎵氧化鋅化學氣相沉積成長晶向控制之研究
    • 化學工程系 /105/ 碩士
    • 研究生: 黃蕙琪 指導教授: 洪儒生
    • 本研究目的在於利用化學氣相沉積以低溫製程下分別在玻璃、藍寶石、n型氮化鎵磊晶板以及p型氮化鎵磊晶板成長低電阻率且具有光學散射特性之粗糙表面摻鎵氧化鋅薄膜,以期望取代氧化銦錫作為藍光發光二極體之透明導…
    • 點閱:244下載:1

    8

    以氧化矽及氧化鋅雙散射層作為光捕捉結構應用於矽基薄膜太陽電池之研究
    • 化學工程系 /101/ 碩士
    • 研究生: 何軾 指導教授: 洪儒生
    •   首先利用溶膠-凝膠法製備氧化矽散射層,藉改變氨水濃度、乙醇比例、分散劑劑量等氧化矽膠體合成條件,探討製備出的氧化矽球體散射層表面形態及其透光特性。實驗結果顯示,當控制氧化矽粒徑為400 nm、分…
    • 點閱:296下載:0

    9

    以非晶矽氧膜層作為矽晶異質接合鈍化層之程序探討
    • 化學工程系 /100/ 碩士
    • 研究生: 李學銓 指導教授: 洪儒生
    • 異質接合太陽電池的高開路電壓特性取決於是否有良好的鈍化層,本論文研究以射頻電漿輔助化學氣相沉積系統(RF-PECVD)製備本質氫化非晶氧化矽薄膜用於鈍化n型單晶矽基材,研究重點為探討本質氫化非晶氧化…
    • 點閱:340下載:3

    10

    使用氫化非晶鍺薄膜作為鍺晶異質接合鈍化層之研究
    • 化學工程系 /107/ 碩士
    • 研究生: 吳篤學 指導教授: 洪儒生
    • 本論文針對鍺晶低能隙的特性,開發以鍺晶為基板之鍺晶異質接合太陽能電池,研究重點在比較射頻電漿輔助化學氣相沉積氫化非晶矽以及氫化非晶鍺薄膜來鈍化矽晶或鍺晶表面之效果。實驗以反射式高能電子繞射儀觀察非晶…
    • 點閱:299下載:0
    • 全文公開日期 2023/09/14 (校內網路)
    • 全文公開日期 2028/09/14 (校外網路)
    • 全文公開日期 2028/09/14 (國家圖書館:臺灣博碩士論文系統)